激光直写图案化纳米厚度的致密碳膜的制备技术

项目简介：

二维碳薄膜材料具有优异的机械柔韧性、化学稳定性、独特的电学和热学性能以及光学透明度，在透明柔性电子领域等领域具有广泛应用。本项目开发了一种全新的激光直写纳米厚度的均匀致密碳膜的技术，所制备的超薄碳膜的厚度为 8-270 nm，并且可轻易地实现图案化制备和向各种柔性基体的转移。