面向AMOLED显示的含退化抑制结构的新型薄膜晶体管设计与研究

发布者:柳鑫发布时间:2021-08-13浏览次数:1135

所属领域:微电子


1.在新型平板显示中,当下新兴的高清显示、虚拟现实以及裸眼3D显示技术都要求使用高速电路,未来器件的工作频率将越来越高。

2.预期几年之内,TFT的动态退化将成为制约器件可靠性提高的瓶颈。

3.本项目根据低温多晶硅TFT的动态退化模型,提出并设计一种含退化抑制结构的新型高可靠性多晶硅TFT:在传统的三端TFT器件沟道侧面制备与沟道互补掺杂的第四端——sub端。

4.优势:

j在新型TFT器件中,引入退化抑制结构之后,器件的正常工作状态不会受影响,但TFT的动态退化效应会被大幅抑制,从而延长显示寿命;

k该工艺与CMOS TFT工艺技术相兼容,且不需要包含LDD结构,但其退化抑制效果优于LDD器件;

③即使当Vsub处于反偏状态(例如-2V电压),虽然其退化抑制的效果弱于sub零偏或正偏时,但动态退化抑制结构依然有效。

5.该技术方案已申请发明专利,目前已通过复审,即将获得授权。同时申请的PCT国际专利也在实质审查阶段。